本篇文章153字，读完约1分钟

本报楚天讯(记者胡长兴通讯员顾炎艳)22日，在武汉光谷标志性建筑“马蹄莲”旁边，新思科技武汉全球R&D中心正式落户。这是新思科技第一次在海外投资建设顶尖的R&D中心。

新思科技武汉全球R&D中心位于光谷未来科技城，拥有3栋建筑，总办公面积超过6万平方米。目前，该中心拥有300多名员工，其中90%以上是R&D工程师。企业仍在招聘，而武汉R&D团队预计将扩大到500多人。

Sisi Technology是全球第一大芯片自动化设计解决方案提供商和芯片接口的ip提供商，总部位于美国硅谷。未来，凭借全球强大的R&D新思科技资源，光谷未来科技城园区将继续吸引来自世界各地的优质资源，进一步拓展集成电路产业，巩固园区“核心-屏幕-终端-网络”生态链的发展优势。

来源：荆州新闻

标题：芯片巨头全球R&D中心落户武汉光谷技术团队将增加到500多人

地址：http://www.jinchengblades.com/jzxw/4792.html